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一種磁記錄介質,其包括:基底;記錄層,形成在所述基底上,具有溝槽圖案;以及保護層,形成在所述記錄層上,填充所述溝槽圖案,其中規定所述記錄層具有保留伺服數據的伺服部分和保留記錄數據的記錄軌道部分,并且其中,在所述伺服部分處的所述保護層的第一膜的厚度比在所述記錄軌道部分處的所述保護層的第二膜的厚度大1nm到10nm的厚度范圍。 |
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磁記錄介質和磁存儲設備
一種磁記錄介質,其包括: 基底; 記錄層,形成在所述基底上,由溝槽圖案圍繞;以及 保護層,形成在所述記錄層上,以填充所述溝槽圖案, 其中,所述記錄層包括在保留伺服數據的伺服部分和保留記錄數據的記錄軌道部分中,以及 其中,在所述伺服部分處的所述保護層的厚度比在所述記錄軌道部分處的所述保護層的厚度大1nm到10nm的范圍。
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專利號: |
200810099507 |
申請日: |
2008年5月13日 |
公開/公告日: |
2008年11月19日 |
授權公告日: |
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申請人/專利權人: |
株式會社東芝 |
國家/省市: |
日本(JP) |
郵編: |
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發明/設計人: |
白鳥聰志、鐮田芳幸、木村香里 |
代理人: |
蹇煒 |
專利代理機構: |
永新專利商標代理有限公司(72002) |
專利代理機構地址: |
香港九龍尖沙咀東部科學館道1號康宏廣場南座18樓1805-6室() |
專利類型: |
發明 |
公開號: |
101308669 |
公告日: |
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授權日: |
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公告號: |
000000000 |
優先權: |
日本2007年5月14日128318/2007 |
審批歷史: |
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附圖數: |
2 |
頁數: |
14 |
權利要求項數: |
2 |
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